庄纯平静的声音响。
“接，咱一更先进的光刻机的实现原理。”
虚拟屏幕投一张极复杂的局部构造图。
“是光刻机最关键的部件，光刻制程布局，我知，让光刻制程提升，有很因素，光源啦，光等等。
在工业界前的认知中，目前理论预测的极限概在3nm左右，今市面基本已经始流通7nm了，台积电在紧张筹备5nm、3nm生产线，阿斯麦估摸着实验室5nm的研制已经很深入了。
我说的是，理论的极限是真正的物理极限，1nm。”
庄纯先是冗长的一段话，给在座的院士教授解释了一些既有的理论，顺便提了己的观点。
“庄总，请问你1nm理论极限的推测依据是什？”
终，有一院士言提问了。
“别急嘛，接我说的就是。
在研究5nm制程的光刻机，在模拟实验室中有些意外的现，将原先的研究品推翻了。
今展现给的，是5nm光刻机，但是，已经兼容了3nm，某些关键的工艺在做一点突破，直接线3nm，就是前预测的理论极限。
但，在程中，又有了新的意外现，3nm并不是极限……”
庄纯简单的几句话，不仅解释了1nm的依据，带了绝的……（内容加载失败！）
(ò﹏ò)
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