2001年12月11日，沪微电科长春实验室将进行一次曝光系统实验。
前一再提，光刻机最核的两东西是镜头光源，今场实验的目的，倒不是说直接就搞定了镜头光源，是不的，表最强组合立才半年，国项目的佬加盟更是不两月的间。
即便2001年的光刻机技术攻坚比2019年容易很，但不至快。今实验的目的，是了进一步证明浸式光刻机的展方向是正确的。
前纪凯论证了浸式光刻机的行，但更是属理论的结论。
就比林本坚带着理论找尼康的候人并不搭理他，理论终究是理论，是需升实际运的。
所次实验的目的一是进一步证明了方向正确，给更的信，浸式光刻机突破现在整光刻机行业的瓶颈，搞定米国人霓虹人搞不定的情，果东西真的行，华夏领域的科研人员说意义极其重。
在基础，就更放的投入更的财力精力了，特别是让国投入更的话。
午9点，长春实验室内，有一台着明显比光刻机粗糙很的东西。进一步的验证研究方向的正确实际生产一台光刻机的最区别就在，……（内容加载失败！）
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